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匿名使用者 發問時間: 社會與文化語言 · 1 0 年前

英翻中......15點喔.......

High-density thin diamond-like carbon (DLC) coatings are very demanding applications in various fields including electronic applications , storage media industries and field emission applications . As a good example, for the past few years, with the introduction of giant magnetoresistive (GMR) heads, storage densities are increasing at remarkable speed. As a result, disk storage industry is approaching areal density higher than 150 Gb/in. . The ultimate limit to storage density is the super-paramagnetic limit, where the thermal energy kT can overcome the coercive energy of the magnetic bit. A smaller bit size requires a smaller magnetic spacing, which is the vertical distance between the read head and the Co storage layer. The density of thin DLC films is important factor in densification of recording area. The requirements for the next generation media overcoat material are well described in Refs. . The big industrial trend in the production of highdensity DLC film is using Ion beam deposition technologies. Numerous research efforts have been made in producing DLC films including I-PVD (physical vapor deposition) methods. Most of the publications were based upon the positive-ion beam deposition methods such as laser ablation , cathodic arc and other I-PVD methods based on magnetron sputter system . However, relatively low research efforts have been made for the negative ion beam deposition methods. The comparison between two methods is briefly described in previous publication . Meanwhile, laser ablation, cathodic arc and most of I-PVD methods are utilizing the positive carbon ions produced by high density plasma or collisions; magnetron sputter type negative ion source (MSNIS) is an I-PVD technology utilizing magnetron sputter configurations and negative carbon ions produced by the surface ionization theory .

In study of thin carbon film density, X-ray reflectivity (XRR) is the most widely used analysis method. XRR is a very extensive analysis tool, which has many advantages such as a completely non-destructive analysis, quantitative measurement of phase contents and texture orientation minimal or no sample preparation requirements. Also, all the measurements can be performed under the ambient conditions for all analysis. Therefore, XRR can provide the information about density, roughness and cross-sectional layering for any amorphous carbon without any sample preparation or damage .

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  • 匿名使用者
    1 0 年前
    最佳解答

    高密度稀少的象鑽石一樣的碳(DLC)薄層正非常要求在各種各樣的領域的應用(包括電子應用,存儲媒體工業和領域發射應用)。 作為一個好例子, 過去幾年以來,帶有巨人magnetoresistive(GMR)首腦的介紹,存儲密度正以驚人的速度增加。 因此,工業貯存磁片接近比150 Gb高的密度areal /在方面。 . 最後限制在存儲密度超級paramagnetic 限制,熱能kT 能克服有磁性一點兒的強製的能源在那裡。 一個更小的一點兒尺寸需要一更小的有磁性的隔開,這是在讀頭和公司貯存層之間的垂直的距離。 薄的DLC 電影的密度是在記錄區的densification裡的重要的原素。 下一代媒介大衣材料的要求被用Refs 描述得好。 . 在高密度的DLC 電影的作品裡的大的工業趨勢使用離子束免職技術。 許多研究計畫已經被在製作DLC 電影(包括我PVD(物理汽相沈積)方法)過程中拍。 大多數出版物基于磁控管的陰極的電弧和另一個我PVD 方法急促含糊地說系統是基于磁控管的陰極的電弧和另一個我PVD 方法急促含糊地說系統。 不過,相對低的研究計畫完全適合負的離子束免職方法。 在兩種方法之間的比較被短暫在以前的出版物裡描述。 同時,鐳射部分切除術,陰極的電弧和大多數我PVD 方法正利用被高密度等離子或者衝突生產的積極的碳離子; 磁控管飛濺唾沫負離子源頭(MSNIS)利用磁控管的一我PVD 技術的類型飛濺唾沫構造和負的碳離子以表面電離理論生產。 在薄的碳電影密度的研究過程中,X射線反射率(XRR)是這種最廣泛使用的分析方法。 XRR是一件非常廣泛的分析工具,這有很多優勢,例如完全非破壞性分析, 最小的階段內容和質地定向或者沒有樣品準備要求的定量測定。 此外,全部尺寸可能被全部分析在外界條件下執行。 因此,XRR 能提供大約密度,粗糙和截面沒有任何樣品準備適合任何無定形碳分層的訊息或者損壞。

    參考資料: 使用翻譯軟體的....不然用打太慢了!
  • 4 年前

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  • 4 年前

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  • 匿名使用者
    1 0 年前

    高的-密度瘦的像鑽石一樣的碳 (DLC)塗料在包括電子的申請,儲藏媒體業和領域發射申請的各種不同的領域中是非常要求多的申請。如一個好例子,過去幾年,與龐大 magnetoresistive(GMR)的介紹前進,儲藏密度正在以令人注目的速度增加。 結果,磁碟片儲藏業正在接近面積的密度比 150 Gb/在高的。 。 對儲藏密度的終極限制是超級-常磁性的 lim

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