Daniel 發問時間: 科學化學 · 1 0 年前

我要蝕刻SiO2但是底層是Nb2O5 thin film

我的膜層是 SIO2 90nm / Nb2O5 13nm / Wafer

我要蝕刻SiO2 thin film, 但是底層是Nb2O5 thin film,

假如用KOH或是氫氟酸來etching SIO2, 同時也會破壞了

底層的Nb2O5,

我要用什麼 etching solution 才不會破壞Nb2O5?

已更新項目:

我是要用來量測SiO2與Nb2O5的膜厚, 所以SiO2要吃完, 並且Nb2O5不能被Etching, 否則橢圓儀就量測不準了.

2 個解答

評分
  • ANDY
    Lv 4
    1 0 年前
    最佳解答

    試試(酸性氟化銨)etching SiO2速度很慢又不傷Nb2O5

    如果嫌速度太慢加一些硫酸也可以但請適量加入

    我以前大概是用10%酸性氟化銨加3%H2SO4etching SiO2

    試試把~希望對你有幫助

    2007-06-29 11:13:59 補充:

    對了~溫度也是控制因素喔

    當然常溫也可以操作~~

    但是增加溫度對蝕刻速度有幫助喔

    (如果你不想增加酸度的話)

    參考資料: 自己, 自己
  • 1 0 年前

    Nb2O5 是金屬氧化物應該可以擋一陣子吧

    你要蝕刻多深?

    應該只能利用時間控制來做

    你這個底層還算好的

    我們大部分都是鋁底材~

    參考資料:
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