Ryan 發問時間: 社會與文化語言 · 7 年前

請幫忙翻譯專業的論文摘要,不要翻譯軟體的

本論文乃研究多晶矽太陽能電池( Multi-crystalline silicon solar cells )抗反射層薄膜( Antireflection thin films)製程之技術,抗反射 SiNx 薄膜已經成為單晶或多晶矽薄膜太陽能電池製程關鍵步驟之ㄧ。目前業界皆以 Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 簡稱PECVD法來進行沉積SiNx薄膜。然而從終端的應用產品上可發現到,實際太陽能電池片上呈現出差異性的抗反射層薄膜沉積顏色。造成太陽能電池模組外觀上突兀與不協調。在經由研究證實發現,此顏色差異源自於抗反射層薄膜厚度不同所表現。此外,抗反射薄膜厚度不均勻,會在介面處影響金屬燒結階段穿透程度與矽合金形成的可能性變化,而導致太陽能電池片上,並聯電阻與串聯電阻的電性變化,間接影響電池片光電轉換效益表現。

在此先行針對SiNx薄膜過程中的製程溫度與氣體流量對其厚度與均勻度和折射率與顏色的影響。實驗結果發現,隨著氣體SiH4流量增加,SiNx薄膜的厚度與折射率會明顯上升;随着温度上升,SiNx膜的厚度先上升后下降,但折射率沒有明顯變化规律的上升的,基於上述實驗結果,對均勻度皆沒有絕對性關係。因此針對異常薄膜沉積顏色下特殊性,變更電池片與載具接觸方法設計,進一步進行實驗觀察其載具設計對其沉積薄膜特性與光學特性的影響。結果表明晶片接觸設計變更,可確實顯著改善晶片太陽

能電池片上抗反射層薄膜厚度均勻性,意即能減少晶片顏色色差。同時兼顧反射率與光電轉換效率。

期望在影響現有生產條件最小變化原則下,藉本研究結果提供工業生產達成改善太陽能電池片氮化矽薄膜色差均勻性,且同時確保氮化矽沉積薄膜特性,進一步提升太陽能電池片光電轉換效益。

1 個解答

評分
  • 7 年前
    最佳解答

    This paper is a study of polycrystalline silicon solar panel (Multi-crystalline silicon solar cells) antireflection thin film (Antireflection thin films) code in production techniques, anti-reflective SiNx thin films have become a single crystal or polycrystalline silicon thin film solar cell manufacturing one of the key steps. Industry are for Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition PECVD SiNx thin films method for deposition for short. However the application from a Terminal product can be found on the actual solar cell rendering on color antireflection thin film deposition of mission specific. Cause solar cell module visually obtrusive and inconsistent. Confirmed through research, this color difference originated antireflection thin film thickness. In addition, antireflective film thickness uneven, affecting metal sintering stage through the degree at the interface with the possibility of changing Silicon alloy which led on solar cells, parallel and series resistors of change, indirectly affecting the solar cell conversion efficiency.字數有限---

還有問題?馬上發問,尋求解答。